Alvo de titânio TA1 TA2 especial para revestimento PVD a vácuo, galvanoplastia, pulverização catódica
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- O alvo de pulverização catódica de titânio é um material utilizado no processo de deposição física de vapor (PVD) para depositar filmes finos de titânio sobre um substrato. O alvo de pulverização catódica é normalmente feito de titânio de alta pureza e é bombardeado com íons de alta energia em uma câmara de vácuo, fazendo com que átomos sejam ejetados do alvo e depositados no substrato, criando um filme fino.
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- Esses filmes finos de titânio têm uma ampla gama de aplicações, incluindo na indústria de semicondutores para circuitos integrados, na produção de células solares e na fabricação de revestimentos decorativos e superfícies resistentes ao desgaste. O uso de alvos de pulverização catódica de titânio permite o controle preciso da espessura e das propriedades do filme de titânio depositado, tornando-se uma ferramenta valiosa em diversos setores.
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- A pureza é uma das principais propriedades do alvo de titânio, pois a pureza do alvo tem um grande efeito nas propriedades do filme. Além disso, a densidade também é um dos principais indicadores de desempenho dos materiais do alvo. Para reduzir a porosidade nos sólidos do alvo e melhorar as propriedades do filme de pulverização catódica, o alvo de titânio geralmente precisa ter uma densidade maior. Quanto maior a densidade do alvo, melhor o desempenho do filme.
Nome | Alvo de titânio |
Nota | Comercialmente puro (Grau 1, Grau 2), Ti-6Al-4V (Grau 5), liga Ti-Al, liga Ti-Cr, liga Ti-Ni, liga Ti-Si, liga Ti-Zr |
Superfície alvo de titânio | Superfície brilhante e usinada/retificada com precisão |
Formas de alvo de titânio | Circular / planar / tubular (formato personalizado conforme desenho) |
Pureza | Acima de 99,99% |
Especificação usada principalmente para alvo de pulverização catódica de titânio | De acordo com o padrão geral da indústria ou demanda específica do cliente |
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