Alvo de molibdênio, folha de molibdênio de alta condutividade térmica, placa de molibdênio, placa de molibdênio, disco de molibdênio

A invenção é direcionada a alvos de pulverização catódica que incluem 50% atômicos ou mais de molibdênio, um segundo elemento metálico de nióbio ou vanádio e um terceiro elemento metálico selecionado do grupo que consiste em titânio, cromo, nióbio, vanádio e tântalo, em que o terceiro elemento metálico é diferente do segundo elemento metálico, e filmes depositados preparados pelos alvos de pulverização catódica. Em um aspecto preferencial da invenção, o alvo de pulverização catódica inclui uma fase rica em molibdênio, uma fase rica no segundo elemento metálico e uma fase rica no terceiro elemento metálico.

• 

  • O Alvo de Molibdênio é fabricado com molibdênio de alta pureza, garantindo desempenho e confiabilidade excepcionais. Sua condutividade térmica e elétrica superiores o tornam a escolha ideal para aplicações de pulverização catódica, onde a deposição precisa de filmes finos é crucial. Com foco em qualidade e precisão, nosso Alvo de Molibdênio é projetado para proporcionar uma deposição de filme consistente e uniforme, resultando em melhor desempenho e rendimento do produto.

  01
• 

  • Sua resistência excepcional a altas temperaturas e ambientes corrosivos o torna uma solução durável e duradoura para uma ampla gama de aplicações. O Molybdenum Target representa um avanço significativo na tecnologia de materiais, oferecendo desempenho, confiabilidade e versatilidade incomparáveis.

  02
• 

  • Seja na indústria de semicondutores, solar ou de revestimentos de película fina, nosso Alvo de Molibdênio é a solução em que você pode confiar para suas necessidades de pulverização catódica. Experimente a diferença com nosso inovador Alvo de Molibdênio e eleve seus processos de fabricação a novos patamares.

  03