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Placa de disco de alvo de nióbio HSG, atacado, alvo de pulverização catódica de nióbio

Nióbio

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Placa de disco de alvo de nióbio HSG, atacado, alvo de pulverização catódica de nióbio

Um alvo de pulverização catódica de nióbio é um material utilizado no processo de pulverização catódica, uma técnica utilizada para depositar filmes finos de material sobre um substrato. Nesse processo, um material alvo, como o nióbio, é bombardeado com íons de alta energia, fazendo com que átomos sejam ejetados da superfície do alvo. Esses átomos ejetados são então depositados sobre um substrato, formando um filme fino.

  • Nota Nb1; Nb2
  • Padrão GB/T3630-2006
  • Pureza ≥99,95%
  • Especificação φ(25-400)x espessura (3-28)mm
  • Condição de temperamento Laminado a frio, recozido
    Alvos de pulverização catódica de nióbio são comumente utilizados na produção de filmes finos para diversas aplicações, incluindo a indústria de semicondutores, revestimentos ópticos e a produção de dispositivos eletrônicos. A alta pureza e a uniformidade do alvo de pulverização catódica de nióbio são importantes para a obtenção de filmes finos de alta qualidade com as propriedades desejadas.
    Esses alvos são normalmente feitos de nióbio de alta pureza e são projetados para suportar o processo de pulverização catódica, garantindo a deposição eficiente e consistente da película fina de nióbio no substrato.
  • Placa de disco de alvo de nióbio HSG atacado alvo de pulverização catódica de nióbio (2)wa6
    • Alvo de pulverização catódica de nióbio, projetado para atender às demandas de processos avançados de deposição de filmes finos. Nosso alvo de pulverização catódica é fabricado com nióbio puro, garantindo desempenho e confiabilidade excepcionais para uma ampla gama de aplicações.
    01
  • Placa de disco alvo de nióbio HSG atacado alvo de pulverização catódica de nióbio (4)js9
    • Com foco em precisão e consistência, nosso alvo de pulverização catódica de nióbio foi projetado para proporcionar deposição uniforme e controlada, resultando em qualidade superior do filme e maior produtividade. Seja na fabricação de semicondutores, revestimentos ópticos ou pesquisa e desenvolvimento, nosso alvo de pulverização catódica é a escolha ideal para obter deposição precisa de filmes finos.
    02
  • Placa de disco alvo de nióbio HSG atacado alvo de pulverização catódica de nióbio (3)6np
    • A pureza e a densidade excepcionais do nosso alvo de pulverização catódica de nióbio o tornam uma excelente escolha para processos de pulverização catódica, permitindo a utilização eficiente do material e minimizando o consumo do alvo. Isso não só resulta em economia de custos, como também contribui para um processo de produção mais sustentável e ecologicamente correto.
    03
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    • Nosso alvo de pulverização catódica de nióbio está disponível em diversos tamanhos e configurações para atender a diferentes sistemas de pulverização catódica e requisitos de deposição. Entendemos a importância da personalização e da flexibilidade para atender às necessidades específicas de nossos clientes, e nossos alvos de pulverização catódica são projetados para oferecer a versatilidade e o desempenho necessários para diversas aplicações.
    04

Composição Química

Nota

Nb1

Nb2

Componentes principais

Nota

0,004

0,01

Outras impurezas

E

0,004

0,01

Em

0,002

0,005

EM

0,005

0,02

Para

0,005

0,01

De

0,002

0,004

Enfrentando

0,07

0,1

O

0,015

0,02

C

0,004

0,01

H

0,0015

0,0015

N

0,003

0,008

Campo de aplicação: indústria química, indústria médica, vidros, eletricidade, galvanoplastia, eletrônica, aeroespacial, indústria militar, petróleo e outras indústrias

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