Placa de disco de alvo de nióbio HSG, atacado, alvo de pulverização catódica de nióbio
-
- Alvo de pulverização catódica de nióbio, projetado para atender às demandas de processos avançados de deposição de filmes finos. Nosso alvo de pulverização catódica é fabricado com nióbio puro, garantindo desempenho e confiabilidade excepcionais para uma ampla gama de aplicações.
-
- Com foco em precisão e consistência, nosso alvo de pulverização catódica de nióbio foi projetado para proporcionar deposição uniforme e controlada, resultando em qualidade superior do filme e maior produtividade. Seja na fabricação de semicondutores, revestimentos ópticos ou pesquisa e desenvolvimento, nosso alvo de pulverização catódica é a escolha ideal para obter deposição precisa de filmes finos.
-
- A pureza e a densidade excepcionais do nosso alvo de pulverização catódica de nióbio o tornam uma excelente escolha para processos de pulverização catódica, permitindo a utilização eficiente do material e minimizando o consumo do alvo. Isso não só resulta em economia de custos, como também contribui para um processo de produção mais sustentável e ecologicamente correto.
-
- Nosso alvo de pulverização catódica de nióbio está disponível em diversos tamanhos e configurações para atender a diferentes sistemas de pulverização catódica e requisitos de deposição. Entendemos a importância da personalização e da flexibilidade para atender às necessidades específicas de nossos clientes, e nossos alvos de pulverização catódica são projetados para oferecer a versatilidade e o desempenho necessários para diversas aplicações.
Alvos de pulverização catódica de nióbio são comumente utilizados na produção de filmes finos para diversas aplicações, incluindo a indústria de semicondutores, revestimentos ópticos e a produção de dispositivos eletrônicos. A alta pureza e a uniformidade do alvo de pulverização catódica de nióbio são importantes para a obtenção de filmes finos de alta qualidade com as propriedades desejadas.
Esses alvos são normalmente feitos de nióbio de alta pureza e são projetados para suportar o processo de pulverização catódica, garantindo a deposição eficiente e consistente da película fina de nióbio no substrato.
Esses alvos são normalmente feitos de nióbio de alta pureza e são projetados para suportar o processo de pulverização catódica, garantindo a deposição eficiente e consistente da película fina de nióbio no substrato.
Composição Química
Nota | Nb1 | Nb2 | |
Componentes principais | Nota | ||
Fé | 0,004 | 0,01 | |
Outras impurezas | E | 0,004 | 0,01 |
Em | 0,002 | 0,005 | |
EM | 0,005 | 0,02 | |
Para | 0,005 | 0,01 | |
De | 0,002 | 0,004 | |
Enfrentando | 0,07 | 0,1 | |
O | 0,015 | 0,02 | |
C | 0,004 | 0,01 | |
H | 0,0015 | 0,0015 | |
N | 0,003 | 0,008 |
Campo de aplicação: indústria química, indústria médica, vidros, eletricidade, galvanoplastia, eletrônica, aeroespacial, indústria militar, petróleo e outras indústrias
GET FINANCING!
Other products can be provided based on customer’s requirements