Háfnio
Alvo de pulverização catódica de háfnio metálico de alta pureza, alvo de háfnio para eletrônicos
O revestimento de filme fino de háfnio também pode ser usado para fornecer dureza e proteção à superfície. A AEM produz alvos de pulverização catódica de háfnio com barras de cristal refinado da mais alta qualidade, garantindo alta pureza, baixo teor de zircônio e alta confiabilidade.
Propriedades do alvo de pulverização catódica de háfnio
| Fórmula Química | Hf |
| Peso atômico | 178,49 |
| Cor/ Aparência | Aço cinza, metálico |
| Ponto de fusão | 2227℃ |
| Condutividade térmica | 23 W/mK |
| Coeficiente de Expansão Térmica | 5,9 x 10-6/K |
| Densidade teórica (g/cc) | 13h31 |
| Ração Z | 0,36 |
| Pulverização catódica | CC |
| Densidade máxima do pó (Watts/polegada quadrada) | 50 |
| Tipo de vínculo | Índio, elastômero |
Especificações do alvo de pulverização catódica de háfnio
| Descrição | Alvos de pulverização catódica de háfnio | |
| Pureza Típica | Hf + Zr>99,99%, | Zr |
| Tamanho | Circular: Diâmetro 1 mm; | Bloco: Comprimento 1 mm |
| Forma | Disco, prato | Coluna, degrau, feito sob medida |
Aplicações de alvos de pulverização catódica de háfnio
1. Usado em processos de deposição, incluindo deposição de semicondutores, deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD).
2. Usado para óptica, incluindo proteção contra desgaste, revestimentos decorativos e displays.
Nossos alvos de pulverização catódica de háfnio de alta qualidade são a solução ideal para deposição de filmes finos na fabricação de semicondutores e eletrônicos. Nossos alvos de pulverização catódica de háfnio são projetados para atender aos exigentes requisitos dos processos modernos de pulverização catódica, garantindo desempenho e confiabilidade excepcionais.
Nossos alvos de pulverização catódica de háfnio estão disponíveis em diversos tamanhos e configurações para se adaptarem a diferentes sistemas de pulverização catódica, proporcionando flexibilidade e compatibilidade com diversos equipamentos. Seja utilizando pulverização catódica por magnetron, pulverização catódica por feixe de íons ou outras técnicas de pulverização catódica, nossos alvos de háfnio proporcionam deposição de filme consistente e uniforme, auxiliando na produção de dispositivos eletrônicos e componentes semicondutores de alto desempenho.
Além dos alvos padrão de pulverização catódica de háfnio, oferecemos opções de fabricação personalizadas para atender às necessidades específicas dos clientes, incluindo formatos, tamanhos e composições exclusivos. Nossa equipe de especialistas se dedica a fornecer soluções personalizadas para atender às suas necessidades específicas de deposição de filmes finos.
descrição2
GET FINANCING!
Grow Your Fleet & Increase Your Revenue