Folhas, pellets e grânulos de tântalo de alta pureza 99,95%
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- O Pellet de Tântalo é um pequeno componente cilíndrico feito de tântalo metálico de alta qualidade. Ele foi projetado especificamente para fornecer excelente capacitância e estabilidade, tornando-o ideal para uso em uma ampla gama de aplicações eletrônicas. Seja em eletrônicos de consumo, telecomunicações, sistemas automotivos ou equipamentos industriais, o Pellet de Tântalo oferece desempenho e durabilidade excepcionais.
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- Uma das principais características do Pellet de Tântalo é sua alta densidade energética, que lhe permite armazenar uma grande quantidade de carga elétrica em um pequeno volume. Isso o torna perfeito para aplicações com espaço limitado, sem comprometer o desempenho. Além disso, o Pellet de Tântalo oferece baixa corrente de fuga e excelente estabilidade térmica, garantindo uma operação consistente e confiável mesmo em condições ambientais desafiadoras.
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- Além disso, o Tantalum Pellet foi projetado para atender aos mais altos padrões de qualidade e confiabilidade da indústria. Ele passa por rigorosos testes e medidas de controle de qualidade para garantir que atenda aos exigentes requisitos dos dispositivos eletrônicos modernos. Isso significa que você pode confiar no Tantalum Pellet para oferecer desempenho consistente e duradouro em seus projetos eletrônicos.
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- Em suma, o Tantalum Pellet é um componente eletrônico versátil e confiável que oferece alta capacitância, densidade de energia e confiabilidade. Seja para projetar um novo produto eletrônico ou atualizar um já existente, o Tantalum Pellet é a escolha perfeita para garantir desempenho e durabilidade ideais. Experimente a diferença que o Tantalum Pellet pode fazer em seus projetos eletrônicos.
Um alvo de pulverização catódica de tântalo é um material utilizado no processo de deposição por pulverização catódica, uma técnica utilizada para depositar filmes finos de material sobre um substrato. Os alvos de pulverização catódica de tântalo são feitos de tântalo de alta pureza e são utilizados na produção de dispositivos eletrônicos, como semicondutores, telas planas e células solares.
Durante o processo de pulverização catódica, um plasma de alta energia bombardeia o alvo de pulverização catódica de tântalo, fazendo com que átomos de tântalo sejam ejetados da superfície do alvo. Esses átomos ejetados se depositam em um substrato, formando uma película fina. Os alvos de pulverização catódica de tântalo são projetados para proporcionar uma deposição consistente e uniforme de tântalo no substrato, garantindo a produção de uma película fina de alta qualidade.
A alta pureza dos alvos de pulverização catódica de tântalo é crucial para atingir as propriedades e o desempenho desejados em dispositivos eletrônicos. O uso de alvos de pulverização catódica de tântalo permite um controle preciso da espessura, composição e estrutura dos filmes finos depositados, tornando-os essenciais na fabricação de componentes eletrônicos avançados.
Durante o processo de pulverização catódica, um plasma de alta energia bombardeia o alvo de pulverização catódica de tântalo, fazendo com que átomos de tântalo sejam ejetados da superfície do alvo. Esses átomos ejetados se depositam em um substrato, formando uma película fina. Os alvos de pulverização catódica de tântalo são projetados para proporcionar uma deposição consistente e uniforme de tântalo no substrato, garantindo a produção de uma película fina de alta qualidade.
A alta pureza dos alvos de pulverização catódica de tântalo é crucial para atingir as propriedades e o desempenho desejados em dispositivos eletrônicos. O uso de alvos de pulverização catódica de tântalo permite um controle preciso da espessura, composição e estrutura dos filmes finos depositados, tornando-os essenciais na fabricação de componentes eletrônicos avançados.
Nota | R05200, R05400, Ta1, Ta10W, Ta2,5W |
Pureza | ≥99,95% |
Densidade | ≥16,6g/cm3 |
Ponto de fusão | 3410℃ |
Estado de entrega | Finalizado |
Procedimento | Material-forjamento-laminação-corte-pelotas de tântalo |
Aplicativo | Aditivos, peças de processamento |
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