Tantaal
01
Prijs van Tanb3/Tanb20/Ta2.5w platen per kg Tantaalplaat voor sputterdoel
-
- Tantaaldoel, tantaalbuis, plaat, staaf is een blauwgrijs overgangsmetaal en is een metaal met een hoog smeltpunt. Tantaal is vervormbaar, hard en corrosiebestendig en reageert niet met koningswater. Wordt gebruikt bij de productie van chemische apparatuur, vacuümbuizen, medische apparaten en implantaten.
-
- Tantaal sputtertargets zijn ontworpen om te voldoen aan de hoge eisen van de halfgeleider- en elektronica-industrie. Onze sputtertargets worden met precisie en expertise vervaardigd om superieure prestaties en betrouwbaarheid te garanderen in dunnefilmdepositieprocessen.
-
- Tantaal is een zeer corrosiebestendig metaal met uitstekende thermische en elektrische geleidbaarheid, waardoor het een ideaal materiaal is voor sputtertargets. Onze tantaal sputtertargets zijn verkrijgbaar in verschillende vormen en maten, geschikt voor verschillende sputtersystemen en depositievereisten. Of u nu vlakke, roterende of op maat gemaakte targets nodig hebt, wij bieden de perfecte oplossing voor uw specifieke toepassing.
-
- Onze sputtertargets worden geproduceerd met behulp van geavanceerde productietechnieken, wat resulteert in een hoge zuiverheid en dichtheid, wat een uniforme en consistente filmafzetting garandeert. De uitzonderlijke materiaaleigenschappen van tantaal, gecombineerd met onze nauwkeurige productieprocessen, zorgen ervoor dat onze targets uitstekende sputterprestaties, een uniforme filmdikte en minimale erosie leveren, wat uiteindelijk leidt tot een verbeterde productiviteit en kostenefficiëntie.
-
- We begrijpen de cruciale rol die sputtertargets spelen in dunnefilmdepositieprocessen en streven ernaar producten te leveren die voldoen aan de hoogste kwaliteits- en prestatienormen. Onze tantaalsputtertargets ondergaan strenge kwaliteitscontroles om hun betrouwbaarheid en consistentie te garanderen. Zo krijgen onze klanten het vertrouwen dat ze nodig hebben voor hun kritische toepassingen.
-
- Voor onze tantaal sputtertargets bieden we ook maatwerkopties om aan specifieke klantvereisten te voldoen. Of u nu een unieke vorm, afmeting of zuiverheidsgraad nodig heeft, ons team van experts werkt graag met u samen om een oplossing op maat te ontwikkelen die exact aan uw specificaties voldoet.
Een tantaal sputtertarget is een materiaal dat wordt gebruikt in het proces van sputterdepositie, een techniek die wordt gebruikt om dunne films van materiaal op een substraat af te zetten. Tantaal sputtertargets zijn gemaakt van zeer zuiver tantaal en worden gebruikt bij de productie van elektronische apparaten, zoals halfgeleiders, platte beeldschermen en zonnecellen.
Tijdens het sputterproces bombardeert een hoogenergetisch plasma het tantaal-sputtertarget, waardoor tantaalatomen van het targetoppervlak worden gestoten. Deze gestoten atomen slaan vervolgens neer op een substraat en vormen een dunne film. Tantaal-sputtertargets worden gekozen vanwege hun hoge smeltpunt, corrosiebestendigheid en uitstekende geleidbaarheid, waardoor ze ideaal zijn voor gebruik in het sputterproces.
Tantaal sputtertargets zijn verkrijgbaar in verschillende vormen en maten, afgestemd op verschillende sputtersystemen en depositievereisten. Ze vormen een essentieel onderdeel van de productie van geavanceerde elektronische apparaten en worden in een breed scala aan industrieën gebruikt.
Tijdens het sputterproces bombardeert een hoogenergetisch plasma het tantaal-sputtertarget, waardoor tantaalatomen van het targetoppervlak worden gestoten. Deze gestoten atomen slaan vervolgens neer op een substraat en vormen een dunne film. Tantaal-sputtertargets worden gekozen vanwege hun hoge smeltpunt, corrosiebestendigheid en uitstekende geleidbaarheid, waardoor ze ideaal zijn voor gebruik in het sputterproces.
Tantaal sputtertargets zijn verkrijgbaar in verschillende vormen en maten, afgestemd op verschillende sputtersystemen en depositievereisten. Ze vormen een essentieel onderdeel van de productie van geavanceerde elektronische apparaten en worden in een breed scala aan industrieën gebruikt.
Met onze Tantalum Sputtering Targets kunt u uitzonderlijke prestaties, betrouwbaarheid en consistentie verwachten, waardoor ze de ideale keuze zijn voor uw dunnefilmdepositiedoelen
Tantaal doelwit, Tantaal ondersteunend doelwit
| Standaard | ASTM B 708-2001 |
| Dimensie | Φ(25-400)mm*(3-28)mm |
| Materiaal | RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2,5W), RO5255 (Ta-10W) |
| Circulair doelformaat | Diameter 25mm tot 400mm x Dikte 3mm tot 28mm |
| Rechthoekige doelgrootte | Dikte 1 mm tot 12,7 mm x Breedte tot 600 mm x Lengte tot 2000 mm |
| Zuiverheid | ≥99,95% of 99,99% |
Technologieparameter
| Cijfer | 3N, 3N5, 4N, met Ta 99,99% |
| Herkristallisatie | 95% min |
| Korrelgrootte | ASTM 4 of fijner |
| Oppervlakteafwerking | 16 Rms max. Of Ra 0,4 (RMS64 of beter) |
| Vlakheid | 0,1 mm of maximaal 0,15% |
| Tolerantie | +/-0,010" op alle afmetingen |
Chemische samenstelling
| Chemie ppm | ||||||||||||
| Aanduiding | Hoofdcomponent | Onzuiverheden maximum | ||||||||||
| Tegenover | Let op | Fe | En | In | IN | Voor | Van | DE | C | H | N | |
| Ta1 | Rest | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | 150 | 40 | 15 | 20 |
| Ta2 | Rest | 800 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb3 | Rest | ＜35000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb20 | Rest | 170000- 230000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| Ta2,5W | Rest | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
| Ta10W | Rest | 400 | 50 | 30 | 20 | 110000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
GET FINANCING!
Other products can be provided based on customer’s requirements