Molybdeendoel, Molybdeenplaat met hoge thermische geleidbaarheid, Molybdeenplaat, MolybdeenPLAAT, Molybdeenschijf

De uitvinding is gericht op sputtertargets met 50 atoomprocent of meer molybdeen, een tweede metaalelement van niobium of vanadium, en een derde metaalelement geselecteerd uit de groep bestaande uit titanium, chroom, niobium, vanadium en tantaal, waarbij het derde metaalelement verschilt van het tweede metaalelement, en op afgezette films die door de sputtertargets zijn geprepareerd. In een voorkeursaspect van de uitvinding omvat de sputtertarget een fase die rijk is aan molybdeen, een fase die rijk is aan het tweede metaalelement, en een fase die rijk is aan het derde metaalelement.

• 

  • De Molybdeen Target wordt vervaardigd met behulp van zeer zuiver molybdeen, wat zorgt voor uitzonderlijke prestaties en betrouwbaarheid. De superieure thermische en elektrische geleidbaarheid maken het een ideale keuze voor sputtertoepassingen, waar nauwkeurige depositie van dunne films cruciaal is. Met de focus op kwaliteit en precisie is onze Molybdeen Target ontworpen voor consistente en uniforme filmdepositie, wat resulteert in verbeterde productprestaties en -opbrengst.

  01
• 

  • Dankzij de uitzonderlijke bestendigheid tegen hoge temperaturen en corrosieve omgevingen is het een duurzame en langdurige oplossing voor een breed scala aan toepassingen. De Molybdeen Target vertegenwoordigt een aanzienlijke vooruitgang in materiaaltechnologie en biedt ongeëvenaarde prestaties, betrouwbaarheid en veelzijdigheid.

  02
• 

  • Of u nu actief bent in de halfgeleider-, zonne-energie- of dunnefilmcoatingindustrie, onze molybdeentarget is dé oplossing waarop u kunt vertrouwen voor uw sputterbehoeften. Ervaar het verschil met onze innovatieve molybdeentarget en til uw productieprocessen naar een hoger niveau.

  03