Hafnium
Sputterdoel van hafniummetaal met hoge zuiverheid, hafniumdoel voor elektronica
Dunne hafniumfilmcoating kan ook worden gebruikt om oppervlaktehardheid en bescherming te bieden. AEM produceert hafnium sputtertargets met de hoogste kwaliteit geraffineerde kristalstaven, wat een hoge zuiverheid, een laag zirkoniumgehalte en een hoge betrouwbaarheid garandeert.
Eigenschappen van hafnium-sputterdoelwitten
| Chemische formule | Hf |
| Atoomgewicht | 178,49 |
| Kleur/Uiterlijk | Grijs staal, metaalachtig |
| Smeltpunt | 2227℃ |
| Thermische geleidbaarheid | 23 W/mK |
| Coëfficiënt van thermische uitzetting | 5,9 x 10-6/K |
| Theoretische dichtheid (g/cc) | 13.31 |
| Z-rantsoen | 0,36 |
| Sputteren | gelijkstroom |
| Maximale poederdichtheid (Watt/vierkante inch) | 50 |
| Type obligatie | Indium, elastomeer |
Specificaties voor hafnium-sputterdoel
| Beschrijving | Hafnium sputterdoelen | |
| Typische zuiverheid | Hf + Zr>99,99%, | Zr |
| Maat | Circulair: Diameter 1 mm; | Blok: Lengte 1 mm |
| Vorm | Schijf, plaat | Kolom, trede, op maat gemaakt |
Toepassingen voor hafnium-sputterdoelen
1. Gebruikt in afzettingsprocessen, waaronder halfgeleiderafzetting, chemische dampafzetting (CVD) en fysische dampafzetting (PVD).
2. Gebruikt voor optica, inclusief slijtagebescherming, decoratieve coatings en displays.
Onze hoogwaardige hafnium sputtertargets, de ideale oplossing voor dunne-film depositie in de halfgeleider- en elektronicaproductie. Onze hafnium sputtertargets zijn ontworpen om te voldoen aan de hoge eisen van moderne sputterprocessen en garanderen uitstekende prestaties en betrouwbaarheid.
Onze hafnium sputtertargets zijn verkrijgbaar in diverse afmetingen en configuraties, geschikt voor verschillende sputtersystemen. Dit biedt flexibiliteit en compatibiliteit met diverse apparatuur. Of u nu magnetronsputteren, ionenbundelsputteren of andere sputtertechnieken gebruikt, onze hafnium targets zorgen voor een consistente en uniforme filmdepositie, wat bijdraagt aan de productie van hoogwaardige elektronische apparaten en halfgeleidercomponenten.
Naast standaard hafnium sputtertargets bieden we ook maatwerkopties om te voldoen aan specifieke klantvereisten, waaronder unieke vormen, afmetingen en samenstellingen. Ons team van experts is toegewijd aan het leveren van oplossingen op maat voor uw specifieke behoeften op het gebied van dunnefilmdepositie.
beschrijving2
GET FINANCING!
Grow Your Fleet & Increase Your Revenue