उच्च शुद्धता असलेले हाफनियम धातू स्पटरिंग लक्ष्य, इलेक्ट्रॉनिक्ससाठी हाफनियम लक्ष्य

हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य गुणधर्म

हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य तपशील

हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य अनुप्रयोग

१. अर्धवाहक निक्षेपण, रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) आणि भौतिक वाष्प निक्षेपण (PVD) यासह निक्षेपण प्रक्रियांमध्ये वापरले जाते.
२. ऑप्टिक्ससाठी वापरले जाते, ज्यामध्ये पोशाख संरक्षण, सजावटीचे कोटिंग्ज आणि डिस्प्ले यांचा समावेश आहे.
आमचे उच्च-गुणवत्तेचे हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य, सेमीकंडक्टर आणि इलेक्ट्रॉनिक्स उत्पादनात पातळ फिल्म जमा करण्यासाठी आदर्श उपाय. आमचे हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य आधुनिक स्पटरिंग प्रक्रियेच्या मागणीच्या आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी डिझाइन केलेले आहेत, उत्कृष्ट कामगिरी आणि विश्वासार्हता सुनिश्चित करतात.

आमचे हाफनियम स्पटरिंग टार्गेट्स वेगवेगळ्या आकारात आणि कॉन्फिगरेशनमध्ये उपलब्ध आहेत जे वेगवेगळ्या स्पटरिंग सिस्टीममध्ये बसतात, जे विविध उपकरणांसह लवचिकता आणि सुसंगतता प्रदान करतात. तुम्ही मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग, आयन बीम स्पटरिंग किंवा इतर स्पटरिंग तंत्रे वापरत असलात तरी, आमचे हाफनियम टार्गेट्स सुसंगत आणि एकसमान फिल्म डिपॉझिशन प्रदान करतात, ज्यामुळे उच्च-कार्यक्षमता इलेक्ट्रॉनिक उपकरणे आणि सेमीकंडक्टर घटक तयार होण्यास मदत होते.
मानक हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्यांव्यतिरिक्त, आम्ही विशिष्ट ग्राहकांच्या गरजा पूर्ण करण्यासाठी कस्टम उत्पादन पर्याय ऑफर करतो, ज्यामध्ये अद्वितीय आकार, आकार आणि रचनांचा समावेश आहे. आमच्या तज्ञांची टीम तुमच्या विशिष्ट पातळ फिल्म डिपॉझिशन गरजा पूर्ण करण्यासाठी तयार केलेले उपाय प्रदान करण्यासाठी समर्पित आहे.