Tantal
01
Tanb3/ Tanb20/ Ta2.5w Placke Präis vum Kg Tantal Board Fir Sputtering Zil
-
- Tantal Zil, Tantal Röhre, Blat, Staang ass e blo-groen Iwwergangsmetall an ass en héije Schmelzpunkt Metal.
-
- Tantal Sputtering Ziler sinn entwéckelt fir déi usprochsvoll Ufuerderunge vun der Hallefleit- an Elektronikindustrie z'erreechen. Eis Sputterziler gi mat Präzisioun an Expertise hiergestallt fir eng super Leeschtung an Zouverlässegkeet an dënnem Filmdepositiounsprozesser ze garantéieren.
-
- Tantal ass en héich korrosionsbeständeg Metal mat exzellenter thermescher an elektrescher Konduktivitéit, sou datt et en idealt Material mécht fir Ziler ze sputteren. Eis Tantal Sputtering Ziler sinn a verschiddene Formen a Gréissten verfügbar fir verschidde Sputtersystemer an Oflagerungsfuerderunge z'empfänken. Egal ob Dir planar, rotativ oder personaliséiert Ziler braucht, mir kënnen déi perfekt Léisung fir Är spezifesch Applikatioun ubidden.
-
- Eis Sputterziler gi mat fortgeschratt Fabrikatiounstechniken produzéiert, wat zu héijer Rengheet an Dicht resultéiert fir eenheetlech a konsequent Filmdepositioun ze garantéieren. Déi aussergewéinlech Materialeigenschaften vum Tantal, kombinéiert mat eise präzise Fabrikatiounsprozesser, erméiglechen eis Ziler exzellent Sputterleistung, eenheetlech Filmdicke a minimal Zilerosioun ze liwweren, wat schlussendlech zu enger verbesserter Produktivitéit a Käschteeffizienz féiert.
-
- Mir verstinn déi kritesch Roll déi Sputterziler an dënnen Filmdepositiounsprozesser spillen, a mir verpflichte Produkter ze liwweren déi den héchste Standarde vu Qualitéit a Leeschtung entspriechen. Eis Tantal Sputtering Ziler ënnerleien rigoréis Qualitéitskontrollmoossnamen fir hir Zouverlässegkeet a Konsistenz ze garantéieren, wat eise Clienten d'Vertraue gëtt, déi se fir hir kritesch Uwendungen brauchen.
-
- Eis Tantal Sputtering Ziler, mir bidden och Personnalisatiounsoptioune fir spezifesch Clientsufuerderungen ze treffen. Egal ob Dir eng eenzegaarteg Form, Gréisst oder Rengheetsniveau braucht, eist Team vun Experten kann mat Iech schaffen fir eng personaliséiert Léisung ze entwéckelen déi Är exakt Spezifikatioune entsprécht.
En Tantal Sputterziel ass e Material dat am Prozess vun der Sputterdepositioun benotzt gëtt, dat ass eng Technik déi benotzt gëtt fir dënn Filmer vu Material op e Substrat ze deposéieren. Tantal Sputtering Ziler sinn aus héich Puritéit Tantal gemaach a ginn an der Produktioun vun elektroneschen Apparater benotzt, wéi Hallefleit, flaach Panel Displays a Solarzellen.
Wärend dem Sputterprozess bombardéiert en héichenergesche Plasma d'Tantal-Sputterzil, wouduerch d'Tantalatome vun der Ziloberfläche ausgestouss ginn. Dës ausgestoussent Atomer deposéieren dann op e Substrat a bilden en dënnen Film. Tantal Sputterziler gi fir hiren héije Schmelzpunkt, Korrosiounsbeständegkeet an exzellente Konduktivitéit gewielt, wat se ideal mécht fir am Sputterprozess ze benotzen.
Tantal Sputtering Ziler sinn a verschiddene Formen a Gréissten verfügbar fir verschidde Sputtersystemer an Oflagerungsfuerderunge z'empfänken. Si sinn e kriteschen Bestanddeel an der Produktioun vun fortgeschratt elektroneschen Apparater a ginn an enger breeder Palette vun Industrien benotzt.
Wärend dem Sputterprozess bombardéiert en héichenergesche Plasma d'Tantal-Sputterzil, wouduerch d'Tantalatome vun der Ziloberfläche ausgestouss ginn. Dës ausgestoussent Atomer deposéieren dann op e Substrat a bilden en dënnen Film. Tantal Sputterziler gi fir hiren héije Schmelzpunkt, Korrosiounsbeständegkeet an exzellente Konduktivitéit gewielt, wat se ideal mécht fir am Sputterprozess ze benotzen.
Tantal Sputtering Ziler sinn a verschiddene Formen a Gréissten verfügbar fir verschidde Sputtersystemer an Oflagerungsfuerderunge z'empfänken. Si sinn e kriteschen Bestanddeel an der Produktioun vun fortgeschratt elektroneschen Apparater a ginn an enger breeder Palette vun Industrien benotzt.
Mat eisen Tantal Sputtering Ziler kënnt Dir aussergewéinlech Leeschtung, Zouverlässegkeet a Konsistenz erwaarden, sou datt se déi ideal Wiel fir Är dënn Filmdepositiounsziler maachen
Tantal Zil, Tantal supttering Zil
| Standard | ASTM B 708-2001 |
| Dimensioun | Φ(25-400)mm*(3-28)mm |
| Material | RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W) |
| Kreesfërmeg Zilgréisst | Duerchmiesser 25 mm bis 400 mm x Dicke 3 mm bis 28 mm |
| Rechtecklech Zilgréisst | Dicke 1 mm bis 12,7 mm x Breet bis 600 mm x Längt bis 2000 mm |
| Rengheet | ≥99,95% oder 99,99% |
Technologie Parameter
| Grad | 3N, 3N5, 4N, mat Ta 99,99% |
| Rekristalliséierung | 95% min |
| Grain Gréisst | ASTM 4 oder méi |
| Surface Finish | 16 Rms max. Oder Ra 0,4 (RMS64 oder besser) |
| Flaachheet | 0,1 mm oder 0,15% max |
| Toleranz | +/- 0,010" op all Dimensiounen |
Chemesch Zesummesetzung
| Chemie ppm | ||||||||||||
| Bezeechnung | Haaptkomponent | Gëftstoffer maximal | ||||||||||
| Gesicht | Nb | Fe | An | An | IN | Fir | Vun | DEN | C | H | N | |
| Ta1 | Rescht | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | 150 | 40 | 15 | 20 |
| Ta2 | Rescht | 800 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb3 | Rescht | ＜35000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb20 | Rescht | 170000- 230000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| Ta 2.5W | Rescht | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
| Ta10W | Rescht | 400 | 50 | 30 | 20 | 110000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
GET FINANCING!
Other products can be provided based on customer’s requirements