Leave Your Message
Héich Puritéit Hafnium Metall Sputterziel, Hafnium Target Fir Elektronik

Hafnium

Héich Puritéit Hafnium Metall Sputterziel, Hafnium Target Fir Elektronik

Hafnium (Hf) ass e glänzend sëlwergrau, en duktile Iwwergangsmetall. D'Hafnium-Metall gëtt weider op Kristallstären gereinegt mam Van Arkel/de Boer Jodprozess. Hafnium widderstoen d'Korrosioun an der Loft wéinst der Bildung vun engem Oxidfilm, obwuel pulveriséiert Hafnium an der Loft verbrennt.

  • Material Hafnium (Hf)
  • Atomescht Gewiicht 178,49
  • Faarf / Ausgesinn Grau Stahl, metallesch

Hafnium dënn Filmbeschichtung kann och benotzt ginn fir Uewerflächhärt a Schutz ze bidden. AEM produzéiert Hafnium Sputtering Ziler mat héchste Qualitéit raffinéiert Kristallstären déi héich Rengheet, nidderegen Zirkoniumgehalt an héich Zouverlässegkeet garantéieren.

Hafnium Sputtering Target Properties

Chemesch Formel

Hf

Atomescht Gewiicht

178,49

Faarf / Ausgesinn

Grau Stahl, metallesch

Schmelzpunkt

2227 ℃

Thermesch Konduktivitéit

23 W/mK

Koeffizient vun thermesch Expansioun

5,9 x 10-6/K

Theoretesch Dicht (g/cc)

13.31

Z Ratioun

0,36

Sputter

DC

Maximal Pulverdicht (Watt / Quadrat Zoll)

50

Typ vun Bond

Indium, Elastomer

Hafnium Sputtering Zil Spezifikatioune

Beschreiwung

Hafnium Sputtering Ziler

Typesch Purity

Hf + Zr>99,99%,

Zr

Gréisst

Kreesfërmeg: Duerchmiesser 1 mm;

Block: Längt 1 mm

Form

Scheif, Plack

Kolonn, Schrëtt, Mooss gemaach

Hafnium Sputtering Target Uwendungen

1. Benotzt an Oflagerung Prozesser, dorënner semiconductor Oflagerung, chemesch Vapor Deposition (CVD), a kierperlech Vapor Deposition (PVD).
2. Benotzt fir Optik, dorënner Verschleißschutz, dekorativ Beschichtungen a Displays.
eis héichqualitativ Hafnium Sputterziler, déi ideal Léisung fir dënn Filmdepositioun an der Hallefleit- an Elektronikfabrikatioun. Eis Hafnium-Sputterziler sinn entwéckelt fir déi usprochsvoll Ufuerderunge vun de modernen Sputterprozesser z'erreechen, fir aussergewéinlech Leeschtung an Zouverlässegkeet ze garantéieren.

Eis Hafnium Sputterziler sinn a verschiddene Gréissten a Konfiguratiounen verfügbar fir verschidde Sputtersystemer ze passen, Flexibilitéit a Kompatibilitéit mat enger Vielfalt vun Ausrüstung ubidden. Egal ob Dir Magnetron-Sputtering, Ionenstrahl-Sputtering oder aner Sputtertechniken benotzt, eis Hafnium-Ziler bidden konsequent an eenheetlech Filmdepositioun, hëlleft fir héich performant elektronesch Geräter a Hallefleitkomponenten ze produzéieren.
Zousätzlech zu Standard Hafnium Sputtering Ziler, bidden mir personaliséiert Fabrikatiounsoptioune fir spezifesch Clientsufuerderungen ze treffen, dorënner eenzegaarteg Formen, Gréissten a Kompositioune. Eist Team vun Experten ass gewidmet fir personaliséiert Léisunge fir Är spezifesch Dënnfilmdepositiounsbedierfnesser ze treffen.

Beschreiwung2

GET FINANCING!

Grow Your Fleet & Increase Your Revenue

What the customer wants to say: