Hafnium
Target penyemprotan logam hafnium dengan kemurnian tinggi, Target Hafnium untuk Elektronik
Lapisan film tipis Hafnium juga dapat digunakan untuk memberikan kekerasan dan perlindungan permukaan. AEM memproduksi target sputtering Hafnium dengan batang kristal murni berkualitas tinggi yang menjamin kemurnian tinggi, kandungan zirkonium rendah, dan keandalan tinggi.
Properti Target Sputtering Hafnium
| Rumus Kimia | Hf |
| Berat Atom | 178.49 |
| Warna/Penampilan | Baja abu-abu, metalik |
| Titik lebur | 2227℃ |
| Konduktivitas Termal | 23 W/mK |
| Koefisien Ekspansi Termal | 5,9 x 10-6/K |
| Kepadatan Teoritis (g/cc) | Tanggal 13.31 |
| Jatah Z | 0.36 |
| Menggerutu | DC |
| Kepadatan Serbuk Maksimum (Watt/Inci Persegi) | 50 |
| Jenis Obligasi | Indium, elastomer |
Spesifikasi Target Sputtering Hafnium
| Keterangan | Target Penyemprotan Hafnium | |
| Kemurnian Khas | Hf + Zr>99.99%, | Zr |
| Ukuran | Lingkaran: Diameter 1 mm; | Blok: Panjang 1mm |
| Membentuk | Cakram, pelat | Kolom, langkah, dibuat khusus |
Aplikasi Target Sputtering Hafnium
1. Digunakan dalam proses deposisi, termasuk deposisi semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD), dan deposisi uap fisik (PVD).
2. Digunakan untuk optik, termasuk perlindungan keausan, pelapis dekoratif, dan tampilan.
target sputtering hafnium berkualitas tinggi kami, solusi ideal untuk pengendapan lapisan tipis dalam produksi semikonduktor dan elektronik. Target sputtering hafnium kami dirancang untuk memenuhi persyaratan yang ketat dari proses sputtering modern, memastikan kinerja dan keandalan yang luar biasa.
Target sputtering hafnium kami tersedia dalam berbagai ukuran dan konfigurasi agar sesuai dengan berbagai sistem sputtering, sehingga memberikan fleksibilitas dan kompatibilitas dengan berbagai peralatan. Baik Anda menggunakan sputtering magnetron, sputtering ion beam, atau teknik sputtering lainnya, target hafnium kami memberikan deposisi film yang konsisten dan seragam, yang membantu menghasilkan perangkat elektronik dan komponen semikonduktor berkinerja tinggi.
Selain target sputtering hafnium standar, kami menawarkan opsi manufaktur khusus untuk memenuhi persyaratan pelanggan tertentu, termasuk bentuk, ukuran, dan komposisi yang unik. Tim ahli kami berdedikasi untuk menyediakan solusi yang dibuat khusus untuk memenuhi kebutuhan deposisi film tipis spesifik Anda.
deskripsi2
GET FINANCING!
Grow Your Fleet & Increase Your Revenue