Meta za raspršivanje metala hafnija visoke čistoće, meta hafnija za elektroniku

Svojstva mete za raspršivanje hafnijem

Specifikacije mete za raspršivanje hafnijem

Primjene meta za raspršivanje hafnijem

1. Koristi se u procesima taloženja, uključujući taloženje poluvodiča, kemijsko taloženje iz pare (CVD) i fizičko taloženje iz pare (PVD).
2. Koristi se za optiku, uključujući zaštitu od habanja, ukrasne premaze i zaslone.
naše visokokvalitetne hafnijeve mete za prskanje, idealno rješenje za taloženje tankog filma u proizvodnji poluvodiča i elektronike. Naše mete za raspršivanje hafnijem dizajnirane su da zadovolje zahtjevne zahtjeve modernih procesa raspršivanja, osiguravajući izvanredne performanse i pouzdanost.

Naše mete za raspršivanje hafnijem dostupne su u različitim veličinama i konfiguracijama kako bi odgovarale različitim sustavima raspršivanja, pružajući fleksibilnost i kompatibilnost s raznolikom opremom. Bilo da koristite magnetronsko raspršivanje, raspršivanje ionskim snopom ili druge tehnike raspršivanja, naše hafnijeve mete pružaju dosljedno i ujednačeno taloženje filma, pomažući u proizvodnji elektroničkih uređaja i poluvodičkih komponenti visokih performansi.
Uz standardne mete za prskanje hafnijem, nudimo mogućnosti proizvodnje po narudžbi kako bismo zadovoljili specifične zahtjeve kupaca, uključujući jedinstvene oblike, veličine i sastave. Naš tim stručnjaka posvećen je pružanju rješenja po mjeri kako bi zadovoljili vaše specifične potrebe za taloženjem tankog filma.