टैंटलम
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उच्च शुद्धता 99.95% टैंटालम शीट छर्रे कणिकाएँ अनाज
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- टैंटलम पेलेट एक छोटा, बेलनाकार आकार का घटक है जो उच्च गुणवत्ता वाले टैंटलम धातु से बना है। इसे विशेष रूप से उत्कृष्ट धारिता और स्थिरता प्रदान करने के लिए इंजीनियर किया गया है, जो इसे इलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला में उपयोग के लिए आदर्श बनाता है। चाहे वह उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स, दूरसंचार, ऑटोमोटिव सिस्टम या औद्योगिक उपकरण हो, टैंटलम पेलेट असाधारण प्रदर्शन और स्थायित्व प्रदान करता है।
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- टैंटलम पेलेट की एक प्रमुख विशेषता इसका उच्च ऊर्जा घनत्व है, जो इसे एक छोटी मात्रा में बड़ी मात्रा में विद्युत आवेश संग्रहीत करने की अनुमति देता है। यह इसे उन अनुप्रयोगों के लिए एकदम सही बनाता है जहाँ स्थान सीमित है, बिना प्रदर्शन से समझौता किए। इसके अतिरिक्त, टैंटलम पेलेट कम रिसाव धारा और उत्कृष्ट तापमान स्थिरता प्रदान करता है, जो चुनौतीपूर्ण पर्यावरणीय परिस्थितियों में भी सुसंगत और विश्वसनीय संचालन सुनिश्चित करता है।
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- इसके अलावा, टैंटलम पेलेट को गुणवत्ता और विश्वसनीयता के लिए उच्चतम उद्योग मानकों को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह सुनिश्चित करने के लिए कठोर परीक्षण और गुणवत्ता नियंत्रण उपायों से गुजरता है कि यह आधुनिक इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों की मांग की आवश्यकताओं को पूरा करता है। इसका मतलब है कि आप अपने इलेक्ट्रॉनिक डिज़ाइन में लगातार और लंबे समय तक चलने वाले प्रदर्शन देने के लिए टैंटलम पेलेट पर भरोसा कर सकते हैं।
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- निष्कर्ष में, टैंटलम पेलेट एक बहुमुखी और भरोसेमंद इलेक्ट्रॉनिक घटक है जो उच्च क्षमता, ऊर्जा घनत्व और विश्वसनीयता प्रदान करता है। चाहे आप एक नया इलेक्ट्रॉनिक उत्पाद डिजाइन कर रहे हों या किसी मौजूदा उत्पाद को अपग्रेड करना चाहते हों, टैंटलम पेलेट इष्टतम प्रदर्शन और दीर्घायु सुनिश्चित करने के लिए एकदम सही विकल्प है। टैंटलम पेलेट आपके इलेक्ट्रॉनिक डिज़ाइन में जो अंतर ला सकता है, उसका अनुभव करें।
टैंटलम स्पटरिंग टारगेट एक ऐसी सामग्री है जिसका उपयोग स्पटर डिपोजिशन की प्रक्रिया में किया जाता है, जो एक ऐसी तकनीक है जिसका उपयोग सब्सट्रेट पर सामग्री की पतली फिल्मों को जमा करने के लिए किया जाता है। टैंटलम स्पटरिंग टारगेट उच्च शुद्धता वाले टैंटलम से बने होते हैं और इनका उपयोग इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, जैसे कि सेमीकंडक्टर, फ्लैट पैनल डिस्प्ले और सौर सेल के उत्पादन में किया जाता है।
स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान, एक उच्च-ऊर्जा प्लाज्मा टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य पर बमबारी करता है, जिससे लक्ष्य सतह से टैंटलम परमाणु बाहर निकल जाते हैं। ये बाहर निकले हुए परमाणु फिर एक सब्सट्रेट पर जमा हो जाते हैं, जिससे एक पतली फिल्म बन जाती है। टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों को सब्सट्रेट पर टैंटलम का एक सुसंगत और समान जमाव प्रदान करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जिससे उच्च-गुणवत्ता वाली पतली फिल्म का उत्पादन सुनिश्चित होता है।
इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में वांछित फिल्म गुण और प्रदर्शन प्राप्त करने के लिए टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों की उच्च शुद्धता महत्वपूर्ण है। टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग जमा पतली फिल्मों की मोटाई, संरचना और संरचना पर सटीक नियंत्रण की अनुमति देता है, जिससे वे उन्नत इलेक्ट्रॉनिक घटकों के निर्माण में आवश्यक हो जाते हैं।
स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान, एक उच्च-ऊर्जा प्लाज्मा टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य पर बमबारी करता है, जिससे लक्ष्य सतह से टैंटलम परमाणु बाहर निकल जाते हैं। ये बाहर निकले हुए परमाणु फिर एक सब्सट्रेट पर जमा हो जाते हैं, जिससे एक पतली फिल्म बन जाती है। टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों को सब्सट्रेट पर टैंटलम का एक सुसंगत और समान जमाव प्रदान करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जिससे उच्च-गुणवत्ता वाली पतली फिल्म का उत्पादन सुनिश्चित होता है।
इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में वांछित फिल्म गुण और प्रदर्शन प्राप्त करने के लिए टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों की उच्च शुद्धता महत्वपूर्ण है। टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग जमा पतली फिल्मों की मोटाई, संरचना और संरचना पर सटीक नियंत्रण की अनुमति देता है, जिससे वे उन्नत इलेक्ट्रॉनिक घटकों के निर्माण में आवश्यक हो जाते हैं।
| श्रेणी | R05200,R05400, Ta1, Ta10W, Ta2.5W |
| पवित्रता | ≥99.95% |
| घनत्व | ≥16.6 ग्रा/सेमी3 |
| गलनांक | 3410℃ |
| डिलीवरी की स्थिति | खत्म |
| प्रक्रिया | सामग्री-फोर्जिंग-रोलिंग-काटने-टैंटलम छर्रे |
| आवेदन | योजक, प्रसंस्करण भाग |
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