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Cible en titane TA1 TA2 Spécial pour revêtement PVD sous vide Galvanoplastie Cible de pulvérisation

Titane

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Cible en titane TA1 TA2 Spécial pour revêtement PVD sous vide Galvanoplastie Cible de pulvérisation

Nous sommes fournisseur de cibles en titane. Notre prix est très compétitif. Nous proposons une large gamme de produits en titane, tels que le titane GR1, le titane GR2, le titane GR5, le titane GR7, le titane GR9 et le titane GR12. Ces produits sont disponibles dans différentes tailles. Une cible en titane haute pureté pour pulvérisation cathodique contient 0,5 à 5 ppm en masse de S comme additif, dont la pureté, hors additifs et gaz, est de 99,995 % en masse ou plus. L'invention vise à fournir une cible en titane haute qualité pour pulvérisation cathodique, exempte de fractures et de fissures lors d'une pulvérisation cathodique à haute puissance (pulvérisation à haut débit) et capable de stabiliser les caractéristiques de pulvérisation.

    • Cible en titane TA1 TA2 Spécial pour revêtement PVD sous vide Galvanoplastie Cible de pulvérisation cathodique (3) vgh
      • La cible de pulvérisation cathodique en titane est un matériau utilisé dans le procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer de fines couches de titane sur un substrat. La cible de pulvérisation cathodique est généralement constituée de titane de haute pureté et est bombardée d'ions à haute énergie dans une chambre à vide, ce qui provoque l'éjection des atomes et leur dépôt sur le substrat, créant ainsi une fine couche.
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    • Cible en titane TA1 TA2 Spécial pour revêtement PVD sous vide Galvanoplastie Cible de pulvérisation cathodique (4)8ha
      • Ces couches minces de titane ont de nombreuses applications, notamment dans l'industrie des semi-conducteurs pour les circuits intégrés, dans la production de cellules solaires et dans la fabrication de revêtements décoratifs et de surfaces résistantes. L'utilisation de cibles de pulvérisation cathodique en titane permet un contrôle précis de l'épaisseur et des propriétés de la couche de titane déposée, ce qui en fait un outil précieux dans de nombreux secteurs.
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    • Cible en titane TA1 TA2 Spécial pour revêtement PVD sous vide Galvanoplastie Cible de pulvérisation cathodique (4)8ha
      • La pureté est l'une des principales propriétés de la cible en titane, car elle influence grandement les propriétés du film. De plus, la densité est également un indicateur clé de performance des matériaux cibles. Afin de réduire la porosité des solides cibles et d'améliorer les propriétés du film de pulvérisation cathodique, la cible en titane doit généralement présenter une densité plus élevée. Plus la densité de la cible est élevée, meilleures sont les performances du film.
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    Nom

    Cible en titane

    Grade

    Commercialement pur (grade 1, grade 2), Ti-6Al-4V (grade 5), alliage Ti-Al, alliage Ti-Cr, alliage Ti-Ni, alliage Ti-Si, alliage Ti-Zr

    Surface cible en titane

    Usiné/rectifié avec précision, surface brillante et brillante

    Formes cibles en titane

    Circulaire / plan / tubulaire (Forme sur mesure selon dessin)

    Pureté

    Plus de 99,99 %

    Spécification principalement utilisée pour la cible de pulvérisation cathodique en titane

    Selon la norme générale de l'industrie ou la demande spécifique du client

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