Tantale
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Plaques de tantale Tanb3/Tanb20/Ta2.5w, prix au kg, pour cible de pulvérisation cathodique
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- La cible de tantale, le tube de tantale, la feuille, la tige sont un métal de transition bleu-gris et un métal à point de fusion élevé. Le tantale est ductile, dur et résistant à la corrosion, et le tantale ne réagit pas avec l'eau régale. Utilisé dans la fabrication d'équipements chimiques, de tubes à vide, d'appareils médicaux et d'implants.
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- Les cibles de pulvérisation cathodique en tantale sont conçues pour répondre aux exigences élevées des industries des semi-conducteurs et de l'électronique. Fabriquées avec précision et expertise, elles garantissent des performances et une fiabilité supérieures lors des processus de dépôt de couches minces.
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- Le tantale est un métal hautement résistant à la corrosion et doté d'une excellente conductivité thermique et électrique, ce qui en fait un matériau idéal pour les cibles de pulvérisation cathodique. Nos cibles de pulvérisation cathodique en tantale sont disponibles en différentes formes et tailles pour s'adapter aux différents systèmes de pulvérisation cathodique et exigences de dépôt. Que vous ayez besoin de cibles planes, rotatives ou de forme personnalisée, nous pouvons vous proposer la solution idéale pour votre application spécifique.
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- Nos cibles de pulvérisation cathodique sont fabriquées à l'aide de techniques de fabrication avancées, garantissant une pureté et une densité élevées pour un dépôt de couche uniforme et constant. Les propriétés exceptionnelles du tantale, combinées à la précision de nos procédés de fabrication, permettent à nos cibles d'offrir d'excellentes performances de pulvérisation cathodique, une épaisseur de couche uniforme et une érosion minimale de la cible, ce qui se traduit par une productivité et une rentabilité accrues.
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- Nous comprenons le rôle crucial des cibles de pulvérisation cathodique dans les procédés de dépôt de couches minces et nous nous engageons à fournir des produits répondant aux normes de qualité et de performance les plus strictes. Nos cibles de pulvérisation cathodique en tantale sont soumises à des contrôles qualité rigoureux pour garantir leur fiabilité et leur régularité, offrant ainsi à nos clients la confiance nécessaire pour leurs applications critiques.
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- Pour nos cibles de pulvérisation cathodique en tantale, nous proposons également des options de personnalisation pour répondre aux exigences spécifiques de nos clients. Que vous recherchiez une forme, une taille ou un niveau de pureté spécifiques, notre équipe d'experts peut collaborer avec vous pour développer une solution sur mesure répondant précisément à vos spécifications.
Une cible de pulvérisation cathodique en tantale est un matériau utilisé dans le procédé de dépôt par pulvérisation cathodique, une technique permettant de déposer des couches minces de matériau sur un substrat. Les cibles de pulvérisation cathodique en tantale sont fabriquées à partir de tantale de haute pureté et sont utilisées dans la production de dispositifs électroniques tels que les semi-conducteurs, les écrans plats et les cellules solaires.
Lors du processus de pulvérisation cathodique, un plasma à haute énergie bombarde la cible en tantale, provoquant l'éjection d'atomes de tantale de la surface de la cible. Ces atomes éjectés se déposent ensuite sur un substrat, formant un film mince. Les cibles de pulvérisation cathodique en tantale sont choisies pour leur point de fusion élevé, leur résistance à la corrosion et leur excellente conductivité, ce qui les rend idéales pour le processus de pulvérisation cathodique.
Les cibles de pulvérisation en tantale sont disponibles en différentes formes et tailles pour s'adapter aux différents systèmes de pulvérisation et exigences de dépôt. Elles constituent un composant essentiel à la production de dispositifs électroniques de pointe et sont utilisées dans un large éventail d'industries.
Lors du processus de pulvérisation cathodique, un plasma à haute énergie bombarde la cible en tantale, provoquant l'éjection d'atomes de tantale de la surface de la cible. Ces atomes éjectés se déposent ensuite sur un substrat, formant un film mince. Les cibles de pulvérisation cathodique en tantale sont choisies pour leur point de fusion élevé, leur résistance à la corrosion et leur excellente conductivité, ce qui les rend idéales pour le processus de pulvérisation cathodique.
Les cibles de pulvérisation en tantale sont disponibles en différentes formes et tailles pour s'adapter aux différents systèmes de pulvérisation et exigences de dépôt. Elles constituent un composant essentiel à la production de dispositifs électroniques de pointe et sont utilisées dans un large éventail d'industries.
Avec nos cibles de pulvérisation au tantale, vous pouvez vous attendre à des performances, une fiabilité et une cohérence exceptionnelles, ce qui en fait le choix idéal pour vos objectifs de dépôt de couches minces.
Cible en tantale, cible de soutien en tantale
| Standard | ASTM B 708-2001 |
| Dimension | Φ(25-400)mm*(3-28)mm |
| Matériel | RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2,5 W), RO5255 (Ta-10 W) |
| Taille de la cible circulaire | Diamètre 25 mm jusqu'à 400 mm x épaisseur 3 mm jusqu'à 28 mm |
| Taille de cible rectangulaire | Épaisseur 1 mm jusqu'à 12,7 mm x Largeur jusqu'à 600 mm x Longueur jusqu'à 2000 mm |
| Pureté | ≥ 99,95 % ou 99,99 % |
Paramètre technologique
| Grade | 3N, 3N5, 4N, avec Ta 99,99 % |
| Recristallisation | 95% min |
| Taille des grains | ASTM 4 ou plus fin |
| Finition de surface | 16Rms max. Ou Ra 0,4 (RMS64 ou mieux) |
| Platitude | 0,1 mm ou 0,15 % maximum |
| Tolérance | +/-0,010" sur toutes les dimensions |
Composition chimique
| Chimie ppm | ||||||||||||
| Désignation | Composant principal | Impuretés maximales | ||||||||||
| Parement | Nb | Fe | Et | Dans | DANS | Pour | De | LE | C | H | N | |
| Ta1 | Reste | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | 150 | 40 | 15 | 20 |
| Ta2 | Reste | 800 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb3 | Reste | ＜35000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb20 | Reste | 170000- 230000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| Ta2,5W | Reste | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
| Ta10W | Reste | 400 | 50 | 30 | 20 | 110000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
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