Niobium
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Disque cible en niobium HSG, cible de pulvérisation cathodique en niobium en gros
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- Cible de pulvérisation cathodique en niobium, conçue pour répondre aux exigences des procédés avancés de dépôt de couches minces. Fabriquée en niobium pur, notre cible de pulvérisation cathodique garantit des performances et une fiabilité exceptionnelles pour un large éventail d'applications.
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- Axée sur la précision et la régularité, notre cible de pulvérisation cathodique en niobium est conçue pour un dépôt uniforme et contrôlé, garantissant une qualité de film supérieure et une productivité accrue. Que vous travailliez dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques ou la recherche et développement, notre cible de pulvérisation cathodique est idéale pour réaliser un dépôt précis de couches minces.
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- La pureté et la densité exceptionnelles de notre cible de pulvérisation cathodique en niobium en font un excellent choix pour les procédés de pulvérisation cathodique, permettant une utilisation efficace du matériau et une consommation minimale de cible. Cela permet non seulement de réaliser des économies, mais contribue également à un processus de production plus durable et respectueux de l'environnement.
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- Nos cibles de pulvérisation cathodique en niobium sont disponibles en différentes tailles et configurations pour s'adapter à différents systèmes de pulvérisation cathodique et exigences de dépôt. Nous comprenons l'importance de la personnalisation et de la flexibilité pour répondre aux besoins spécifiques de nos clients. Nos cibles de pulvérisation cathodique sont conçues pour offrir la polyvalence et les performances requises pour diverses applications.
Les cibles de pulvérisation cathodique en niobium sont couramment utilisées dans la production de couches minces pour diverses applications, notamment dans l'industrie des semi-conducteurs, pour les revêtements optiques et la production de dispositifs électroniques. La grande pureté et l'uniformité de la cible de pulvérisation cathodique en niobium sont essentielles pour obtenir des couches minces de haute qualité présentant les propriétés souhaitées.
Ces cibles sont généralement fabriquées à partir de niobium de haute pureté et sont conçues pour résister au processus de pulvérisation cathodique, garantissant un dépôt efficace et cohérent du film mince de niobium sur le substrat.
Ces cibles sont généralement fabriquées à partir de niobium de haute pureté et sont conçues pour résister au processus de pulvérisation cathodique, garantissant un dépôt efficace et cohérent du film mince de niobium sur le substrat.
Composition chimique
| Grade | Nb1 | Nb2 | |
| Composants principaux | Nb | ||
| Fe | 0,004 | 0,01 | |
| Autres impuretés | Et | 0,004 | 0,01 |
| Dans | 0,002 | 0,005 | |
| DANS | 0,005 | 0,02 | |
| Pour | 0,005 | 0,01 | |
| De | 0,002 | 0,004 | |
| Parement | 0,07 | 0,1 | |
| LE | 0,015 | 0,02 | |
| C | 0,004 | 0,01 | |
| H | 0,0015 | 0,0015 | |
| N | 0,003 | 0,008 |
Champ d'application： industrie chimique, industrie médicale, verrerie, électricité, galvanoplastie, électronique, aérospatiale, industrie militaire, pétrole et autres industries
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