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Blanco de pulverización catódica de tungsteno y titanio al 99,99 % de peso, blanco de pulverización catódica al 10 % de peso

Tungsteno

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Blanco de pulverización catódica de tungsteno y titanio al 99,99 % de peso, blanco de pulverización catódica al 10 % de peso

Bango Alloy suministra objetivos de tungsteno y objetivos de pulverización catódica de tungsteno en una amplia gama de grados y especificaciones. Su requisito de envío rápido podría satisfacerse gracias a nuestro extenso stock de tungsteno.
Un objetivo de aleación de tungsteno es un material utilizado en diversas aplicaciones, como en la producción de tubos de rayos X, la evaporación por haz de electrones y la deposición física de vapor.

    • Objetivo de pulverización catódica de tungsteno y titanio de 99 lmt
      • Los blancos de aleación de tungsteno son conocidos por su alta densidad, alto punto de fusión y excelente conductividad térmica y eléctrica, lo que los hace ideales para aplicaciones de alta energía. Estos blancos se utilizan a menudo en imágenes médicas, inspección industrial y procesos de fabricación de semiconductores.
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    • Objetivo de pulverización catódica de tungsteno y titanio 99fka
      • La composición de los objetivos de aleación de tungsteno puede variar, pero normalmente consisten en tungsteno combinado con otros metales como níquel, cobre o hierro para mejorar sus propiedades para aplicaciones específicas.
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    • Blanco de pulverización catódica de tungsteno y titanio 9964h
      • Nuestros objetivos de aleación de tungsteno están diseñados para satisfacer los exigentes requisitos de las industrias de semiconductores y recubrimientos de película delgada. Ofrecen un rendimiento y una fiabilidad excepcionales, lo que los convierte en la opción ideal para procesos de pulverización catódica y deposición de película delgada.
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    Nuestros objetivos de aleación de tungsteno están diseñados para satisfacer los exigentes requisitos de las industrias de semiconductores y recubrimientos de película delgada. Ofrecen un rendimiento y una fiabilidad excepcionales, lo que los convierte en la opción ideal para procesos de pulverización catódica y deposición de película delgada.

    Inducción de tungsteno

    Apariencia

    Brillo metálico blanco plateado

    Pureza

    W≥99,95%

    Densidad

    no menos de 19,1 g/cm3

    Estado del suministro

    Pulido de superficies, procesamiento de máquinas CNC

    Estándares de calidad

    GB/T 3875-2006 (placa de tungsteno)

    Campo de aplicación

    Aeroespacial, fundición de tierras raras, fuente de luz eléctrica, equipos químicos, equipos médicos, maquinaria metalúrgica, equipos de fundición, petróleo y otros campos.

    Características

    Tras la pulverización y sinterización, el diámetro de la textura transparente promedio del blanco de tungsteno es de 100 µm o inferior, con un contenido de oxígeno de 20 ppm o inferior, y una resistencia a la deflexión de aproximadamente 500 MPa. El aumento de la producción de polvo metálico sin procesar y la mayor capacidad de sinterización permiten mantener el coste del blanco de tungsteno a un bajo precio. Tras la sinterización, el blanco de tungsteno presenta una alta densidad y un marco transparente, inalcanzable con los métodos tradicionales de sinterización por prensado. Además, se ha mejorado significativamente la resistencia a la deflexión, lo que ha conllevado una reducción significativa de la materia particulada.

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