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Objetivo de titanio TA1 TA2 Especial para recubrimiento PVD al vacío Objetivo de galvanoplastia

Titanio

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Objetivo de titanio TA1 TA2 Especial para recubrimiento PVD al vacío Objetivo de galvanoplastia

Somos proveedores de dianas de titanio. Ofrecemos precios competitivos. Ofrecemos una amplia gama de productos de titanio, como titanio gr1, titanio gr2, titanio gr5, titanio gr7, titanio gr9 y titanio gr12, disponibles en varios tamaños. Una diana de titanio de alta pureza para pulverización catódica contiene de 0,5 a 5 ppm en masa de S como componente aditivo, con una pureza del 99,995 % en masa o superior, excluyendo los componentes aditivos y los componentes gaseosos. El objetivo de esta invención es proporcionar una diana de titanio de alta calidad para pulverización catódica, libre de fracturas y grietas durante la pulverización catódica de alta potencia (pulverización catódica de alta velocidad) y capaz de estabilizar las características de la pulverización.

    • Objetivo de titanio TA1 TA2 Especial para recubrimiento PVD al vacío Galvanoplastia Sputtering Objetivo (3)vgh
      • El blanco de titanio para pulverización catódica es un material utilizado en el proceso de deposición física de vapor (PVD) para depositar películas delgadas de titanio sobre un sustrato. El blanco de pulverización catódica suele estar hecho de titanio de alta pureza y se bombardea con iones de alta energía en una cámara de vacío, lo que provoca la expulsión de átomos del blanco y su depósito sobre el sustrato, creando una película delgada.
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    • Objetivo de titanio TA1 TA2 Especial para recubrimiento PVD al vacío Galvanoplastia Sputtering Objetivo (4)8ha
      • Estas películas delgadas de titanio tienen una amplia gama de aplicaciones, incluyendo la industria de semiconductores para circuitos integrados, la producción de células solares y la fabricación de recubrimientos decorativos y superficies resistentes al desgaste. El uso de dianas de pulverización catódica de titanio permite un control preciso del espesor y las propiedades de la película de titanio depositada, lo que la convierte en una herramienta valiosa en diversas industrias.
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    • Objetivo de titanio TA1 TA2 Especial para recubrimiento PVD al vacío Galvanoplastia Sputtering Objetivo (4)8ha
      • La pureza es una de las principales propiedades del objetivo de titanio, ya que influye significativamente en las propiedades de la película. Además, la densidad es uno de los indicadores clave de rendimiento de los materiales del objetivo. Para reducir la porosidad de los sólidos del objetivo y mejorar las propiedades de la película de pulverización catódica, generalmente se requiere que el objetivo de titanio tenga una mayor densidad. Cuanto mayor sea la densidad del objetivo, mejor será el rendimiento de la película.
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    Nombre

    Objetivo de titanio

    Calificación

    Comercialmente puro (Grado 1, Grado 2), Ti-6Al-4V (Grado 5), aleación Ti-Al, aleación Ti-Cr, aleación Ti-Ni, aleación Ti-Si, aleación Ti-Zr.

    Superficie del objetivo de titanio

    Superficie brillante y mecanizada con precisión.

    Formas de objetivo de titanio

    Circular / plana / tubular (forma personalizada según dibujo)

    Pureza

    Por encima del 99,99%

    Especificación utilizada principalmente para objetivos de pulverización catódica de titanio.

    Según el estándar general de la industria o la demanda específica del cliente.

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