Precio por kg de placas de tantalio Tanb3/Tanb20/Ta2.5w para blanco de pulverización catódica
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- El objetivo, tubo, lámina y varilla de tantalio es un metal de transición azul grisáceo y es un metal con un punto de fusión alto. El tantalio es dúctil, duro y resistente a la corrosión, y no reacciona con el agua regia. Se utiliza en la fabricación de equipos químicos, tubos de vacío, aparatos médicos e implantes.
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- Los blancos de tantalio para pulverización catódica están diseñados para satisfacer los exigentes requisitos de las industrias de semiconductores y electrónica. Nuestros blancos de pulverización catódica se fabrican con precisión y experiencia para garantizar un rendimiento y una fiabilidad superiores en los procesos de deposición de película delgada.
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- El tantalio es un metal altamente resistente a la corrosión con una excelente conductividad térmica y eléctrica, lo que lo convierte en un material ideal para blancos de pulverización catódica. Nuestros blancos de tantalio para pulverización catódica están disponibles en diversas formas y tamaños para adaptarse a diferentes sistemas de pulverización catódica y requisitos de deposición. Ya sea que necesite blancos planos, rotatorios o con formas personalizadas, podemos ofrecerle la solución perfecta para su aplicación específica.
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- Nuestros blancos de pulverización catódica se fabrican mediante técnicas de fabricación avanzadas, lo que resulta en una alta pureza y densidad para garantizar una deposición de película uniforme y consistente. Las excepcionales propiedades del tantalio, combinadas con nuestros precisos procesos de fabricación, permiten que nuestros blancos ofrezcan un excelente rendimiento de pulverización catódica, un espesor de película uniforme y una mínima erosión, lo que se traduce en una mayor productividad y rentabilidad.
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- Comprendemos la importancia de los blancos de pulverización catódica en los procesos de deposición de película delgada y nos comprometemos a ofrecer productos que cumplan con los más altos estándares de calidad y rendimiento. Nuestros blancos de pulverización catódica de tantalio se someten a rigurosos controles de calidad para garantizar su fiabilidad y consistencia, brindando a nuestros clientes la confianza que necesitan para sus aplicaciones críticas.
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- Ofrecemos opciones de personalización para nuestros blancos de pulverización catódica de tantalio según las necesidades específicas de cada cliente. Ya sea que necesite una forma, tamaño o nivel de pureza únicos, nuestro equipo de expertos puede colaborar con usted para desarrollar una solución a medida que se ajuste a sus especificaciones exactas.
Durante el proceso de pulverización catódica, un plasma de alta energía bombardea el blanco de tantalio, expulsando átomos de tantalio de su superficie. Estos átomos se depositan sobre un sustrato, formando una película delgada. Los blancos de tantalio se eligen por su alto punto de fusión, resistencia a la corrosión y excelente conductividad, lo que los hace ideales para el proceso de pulverización catódica.
Los blancos de tantalio para pulverización catódica están disponibles en diversas formas y tamaños para adaptarse a diferentes sistemas de pulverización catódica y requisitos de deposición. Son un componente esencial en la producción de dispositivos electrónicos avanzados y se utilizan en una amplia gama de industrias.
Blanco de tantalio, blanco de tantalio
| Estándar | ASTM B 708-2001 |
| Dimensión | Φ(25-400)mm*(3-28)mm |
| Material | RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2,5 W), RO5255 (Ta-10 W) |
| Tamaño del objetivo circular | Diámetro 25 mm hasta 400 mm x Espesor 3 mm hasta 28 mm |
| Tamaño de objetivo rectangular | Espesor 1 mm hasta 12,7 mm x Ancho hasta 600 mm x Largo hasta 2000 mm |
| Pureza | ≥99,95% o 99,99% |
Parámetros tecnológicos
| Calificación | 3N, 3N5, 4N, con Ta 99,99% |
| Recristalización | 95% mínimo |
| Tamaño del grano | ASTM 4 o más fino |
| Acabado superficial | 16 RMS máx. o Ra 0,4 (RMS 64 o superior) |
| Llanura | 0,1 mm o 0,15 % máximo |
| Tolerancia | +/-0,010" en todas las dimensiones |
Composición química
| Química ppm | ||||||||||||
| Designación | Componente principal | Máximo de impurezas | ||||||||||
| Frente a | Nótese bien | Fe | Y | En | EN | Para | De | EL | do | H | norte | |
| Ta1 | Resto | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | 150 | 40 | 15 | 20 |
| Ta2 | Resto | 800 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb3 | Resto |
| 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb20 | Resto | 170000- 230000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| Ta2.5W | Resto | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
| Ta10W | Resto | 400 | 50 | 30 | 20 | 110000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
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