Tantal
01
Tanb3/ Tanb20/ Ta2.5w Platten Preis pro kg Tantalplatte für Sputtertarget
-
- Tantaltargets, Tantalrohre, -bleche und -stäbe sind blaugraue Übergangsmetalle mit hohem Schmelzpunkt. Tantal ist duktil, hart und korrosionsbeständig und reagiert nicht mit Königswasser. Es wird zur Herstellung von chemischen Geräten, Vakuumröhren, medizinischen Geräten und Implantaten verwendet.
-
- Tantal-Sputtertargets erfüllen die hohen Anforderungen der Halbleiter- und Elektronikindustrie. Unsere Sputtertargets werden mit Präzision und Fachwissen gefertigt, um höchste Leistung und Zuverlässigkeit bei Dünnschichtabscheidungsprozessen zu gewährleisten.
-
- Tantal ist ein hochkorrosionsbeständiges Metall mit ausgezeichneter thermischer und elektrischer Leitfähigkeit und eignet sich daher ideal für Sputtertargets. Unsere Tantal-Sputtertargets sind in verschiedenen Formen und Größen erhältlich und erfüllen so unterschiedliche Sputtersysteme und Beschichtungsanforderungen. Ob planare, rotierende oder individuell geformte Targets – wir bieten die perfekte Lösung für Ihre spezifische Anwendung.
-
- Unsere Sputtertargets werden mit modernsten Fertigungsverfahren hergestellt. Dies führt zu hoher Reinheit und Dichte und gewährleistet eine gleichmäßige und konsistente Filmabscheidung. Die außergewöhnlichen Materialeigenschaften von Tantal in Kombination mit unseren präzisen Fertigungsprozessen ermöglichen unseren Targets eine hervorragende Sputterleistung, gleichmäßige Filmdicke und minimale Targeterosion. Dies führt letztendlich zu verbesserter Produktivität und Kosteneffizienz.
-
- Wir wissen um die entscheidende Rolle von Sputtertargets bei der Dünnschichtabscheidung und sind bestrebt, Produkte zu liefern, die höchsten Qualitäts- und Leistungsstandards entsprechen. Unsere Tantal-Sputtertargets unterliegen strengen Qualitätskontrollen, um ihre Zuverlässigkeit und Konsistenz zu gewährleisten und unseren Kunden die nötige Sicherheit für ihre kritischen Anwendungen zu geben.
-
- Für unsere Tantal-Sputtertargets bieten wir auch individuelle Anpassungsmöglichkeiten an spezifische Kundenanforderungen. Ob Sie eine besondere Form, Größe oder Reinheit benötigen – unser Expertenteam entwickelt gemeinsam mit Ihnen eine maßgeschneiderte Lösung, die genau Ihren Anforderungen entspricht.
Ein Tantal-Sputtertarget ist ein Material, das beim Sputtern verwendet wird, einer Technik zum Aufbringen dünner Materialschichten auf ein Substrat. Tantal-Sputtertargets bestehen aus hochreinem Tantal und werden bei der Herstellung elektronischer Geräte wie Halbleitern, Flachbildschirmen und Solarzellen eingesetzt.
Beim Sputtern beschießt ein hochenergetische Plasma das Tantal-Sputtertarget, wodurch Tantalatome aus der Targetoberfläche herausgeschleudert werden. Diese Atome lagern sich dann auf einem Substrat ab und bilden einen dünnen Film. Tantal-Sputtertargets werden aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts, ihrer Korrosionsbeständigkeit und ihrer hervorragenden Leitfähigkeit ausgewählt und eignen sich daher ideal für den Sputterprozess.
Tantal-Sputtertargets sind in verschiedenen Formen und Größen erhältlich und eignen sich für unterschiedliche Sputtersysteme und Beschichtungsanforderungen. Sie sind ein wichtiger Bestandteil der Produktion moderner elektronischer Geräte und werden in zahlreichen Branchen eingesetzt.
Beim Sputtern beschießt ein hochenergetische Plasma das Tantal-Sputtertarget, wodurch Tantalatome aus der Targetoberfläche herausgeschleudert werden. Diese Atome lagern sich dann auf einem Substrat ab und bilden einen dünnen Film. Tantal-Sputtertargets werden aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts, ihrer Korrosionsbeständigkeit und ihrer hervorragenden Leitfähigkeit ausgewählt und eignen sich daher ideal für den Sputterprozess.
Tantal-Sputtertargets sind in verschiedenen Formen und Größen erhältlich und eignen sich für unterschiedliche Sputtersysteme und Beschichtungsanforderungen. Sie sind ein wichtiger Bestandteil der Produktion moderner elektronischer Geräte und werden in zahlreichen Branchen eingesetzt.
Mit unseren Tantal-Sputtertargets können Sie außergewöhnliche Leistung, Zuverlässigkeit und Konsistenz erwarten, was sie zur idealen Wahl für Ihre Dünnschichtabscheidungsziele macht
Tantal-Target, Tantal-Supptering-Target
| Standard | ASTM B 708-2001 |
| Dimension | Φ(25-400)mm*(3-28)mm |
| Material | RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2,5 W), RO5255 (Ta-10 W) |
| Kreisförmige Zielgröße | Durchmesser 25 mm bis 400 mm x Dicke 3 mm bis 28 mm |
| Rechteckige Zielgröße | Dicke 1 mm bis 12,7 mm x Breite bis 600 mm x Länge bis 2000 mm |
| Reinheit | ≥99,95 % oder 99,99 % |
Technologieparameter
| Grad | 3N, 3N5, 4N, mit Ta 99,99 % |
| Rekristallisation | 95 % min |
| Körnung | ASTM 4 oder feiner |
| Oberflächenbeschaffenheit | 16Rms max. Oder Ra 0,4 (RMS64 oder besser) |
| Ebenheit | 0,1 mm oder 0,15 % max. |
| Toleranz | +/-0,010" bei allen Abmessungen |
Chemische Zusammensetzung
| Chemie ppm | ||||||||||||
| Bezeichnung | Hauptbestandteil | Verunreinigungen maxmium | ||||||||||
| Verkleidung | Nr. | Fe | Und | In | IN | Für | Von | DER | C | H | N | |
| Ta1 | Rest | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | 150 | 40 | 15 | 20 |
| Ta2 | Rest | 800 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb3 | Rest | ＜35000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb20 | Rest | 170000- 230000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| Ta2,5W | Rest | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
| Ta10W | Rest | 400 | 50 | 30 | 20 | 110000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
GET FINANCING!
Other products can be provided based on customer’s requirements