Niob
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HSG Niob-Zielscheibenplatte Großhandel Niob-Sputtertarget
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- Niob-Sputtertarget, entwickelt für die Anforderungen moderner Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Sputtertarget wird aus reinem Niob hergestellt und gewährleistet außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit für ein breites Anwendungsspektrum.
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- Mit Fokus auf Präzision und Konsistenz ist unser Niob-Sputtertarget für eine gleichmäßige und kontrollierte Abscheidung ausgelegt, was zu überlegener Filmqualität und gesteigerter Produktivität führt. Ob in der Halbleiterfertigung, der optischen Beschichtung oder in Forschung und Entwicklung – unser Sputtertarget ist die ideale Wahl für präzise Dünnschichtabscheidung.
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- Die außergewöhnliche Reinheit und Dichte unseres Niob-Sputtertargets machen es zu einer hervorragenden Wahl für Sputterprozesse. Es ermöglicht eine effiziente Materialnutzung und minimiert den Targetverbrauch. Dies führt nicht nur zu Kosteneinsparungen, sondern trägt auch zu einem nachhaltigeren und umweltfreundlicheren Produktionsprozess bei.
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- Unser Niob-Sputtertarget ist in verschiedenen Größen und Konfigurationen erhältlich und erfüllt so unterschiedliche Sputtersysteme und Beschichtungsanforderungen. Wir wissen, wie wichtig individuelle Anpassung und Flexibilität für die individuellen Bedürfnisse unserer Kunden sind. Unsere Sputtertargets bieten die nötige Vielseitigkeit und Leistung für vielfältige Anwendungen.
Niob-Sputtertargets werden häufig zur Herstellung dünner Schichten für verschiedene Anwendungen eingesetzt, unter anderem in der Halbleiterindustrie, für optische Beschichtungen und bei der Herstellung elektronischer Geräte. Die hohe Reinheit und Gleichmäßigkeit des Niob-Sputtertargets sind wichtig für die Herstellung hochwertiger dünner Schichten mit den gewünschten Eigenschaften.
Diese Targets bestehen typischerweise aus hochreinem Niob und sind so konzipiert, dass sie dem Sputterprozess standhalten und so eine effiziente und gleichmäßige Abscheidung des dünnen Niobfilms auf dem Substrat gewährleisten.
Diese Targets bestehen typischerweise aus hochreinem Niob und sind so konzipiert, dass sie dem Sputterprozess standhalten und so eine effiziente und gleichmäßige Abscheidung des dünnen Niobfilms auf dem Substrat gewährleisten.
Chemische Zusammensetzung
| Grad | Sb1 | Sb2 | |
| Hauptkomponenten | Nr. | ||
| Fe | 0,004 | 0,01 | |
| Andere Verunreinigungen | Und | 0,004 | 0,01 |
| In | 0,002 | 0,005 | |
| IN | 0,005 | 0,02 | |
| Für | 0,005 | 0,01 | |
| Von | 0,002 | 0,004 | |
| Verkleidung | 0,07 | 0,1 | |
| DER | 0,015 | 0,02 | |
| C | 0,004 | 0,01 | |
| H | 0,0015 | 0,0015 | |
| N | 0,003 | 0,008 |
Anwendungsfeld： Chemische Industrie, Medizinindustrie, Glasindustrie, Elektrizität, Galvanik, Elektronik, Luft- und Raumfahrt, Militärindustrie, Erdölindustrie und andere Industrien
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