Мишена за разпръскване на метален хафний с висока чистота, хафниева мишена за електроника

Свойства на мишената за разпръскване на хафний

Спецификации на мишената за разпръскване на хафний

Приложения за цели за разпръскване на хафний

1. Използва се в процеси на отлагане, включително отлагане на полупроводници, химическо отлагане на пари (CVD) и физическо отлагане на пари (PVD).
2. Използва се за оптика, включително защита от износване, декоративни покрития и дисплеи.
нашите висококачествени хафниеви мишени за разпръскване, идеалното решение за отлагане на тънък слой в производството на полупроводници и електроника. Нашите мишени за разпръскване с хафний са проектирани да отговорят на взискателните изисквания на съвременните процеси на разпрашаване, като гарантират изключителна производителност и надеждност.

Нашите мишени за разпръскване с хафний се предлагат в различни размери и конфигурации, за да паснат на различни системи за разпрашаване, осигурявайки гъвкавост и съвместимост с разнообразно оборудване. Независимо дали използвате магнетронно разпрашване, разпрашване с йонен лъч или други техники за разпрашаване, нашите мишени с хафний осигуряват последователно и равномерно отлагане на филм, което помага за производството на високоефективни електронни устройства и полупроводникови компоненти.
В допълнение към стандартните мишени за разпръскване на хафний, ние предлагаме опции за производство по поръчка, за да отговорим на специфичните изисквания на клиента, включително уникални форми, размери и композиции. Нашият екип от експерти е посветен на предоставянето на индивидуални решения, за да отговори на вашите специфични нужди от отлагане на тънък слой.