Tantal
01
Yüksək Saflıq 99,95% Tantal Vərəqləri Qranullar Taxıllar
-
- Tantal Pelleti yüksək keyfiyyətli tantal metalından hazırlanmış kiçik, silindrik formalı komponentdir. Mükəmməl tutum və sabitliyi təmin etmək üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır ki, bu da onu müxtəlif elektron tətbiqlərdə istifadə üçün ideal edir. İstər istehlakçı elektronikası, telekommunikasiya, avtomobil sistemləri və ya sənaye avadanlıqlarında olsun, Tantal Pellet müstəsna performans və davamlılıq təmin edir.
-
- Tantal pelletinin əsas xüsusiyyətlərindən biri onun yüksək enerji sıxlığıdır ki, bu da ona kiçik həcmdə böyük miqdarda elektrik yükünü saxlamağa imkan verir. Bu, onu performansdan ödün vermədən yerin məhdud olduğu tətbiqlər üçün mükəmməl edir. Bundan əlavə, Tantal Pelet çətin ekoloji şəraitdə belə ardıcıl və etibarlı işləməyi təmin edən aşağı sızma cərəyanı və əla temperatur sabitliyi təklif edir.
-
- Bundan əlavə, Tantal Pelet keyfiyyət və etibarlılıq üçün ən yüksək sənaye standartlarına cavab vermək üçün hazırlanmışdır. Müasir elektron cihazların tələblərinə cavab verdiyinə əmin olmaq üçün ciddi sınaq və keyfiyyətə nəzarət tədbirlərindən keçir. Bu o deməkdir ki, siz Tantal Peletinə elektron dizaynlarınızda ardıcıl və uzunmüddətli performans təmin etmək üçün etibar edə bilərsiniz.
-
- Nəticə olaraq, Tantal Pelet yüksək tutum, enerji sıxlığı və etibarlılıq təklif edən çox yönlü və etibarlı elektron komponentdir. İstər yeni elektron məhsul dizayn edirsinizsə, istərsə də mövcud olanı təkmilləşdirmək istəyirsiniz, Tantal Pelet optimal performans və uzunömürlülüyü təmin etmək üçün mükəmməl seçimdir. Tantal pelletinin elektron dizaynlarınızda edə biləcəyi fərqi hiss edin.
Tantal püskürtmə hədəfi, nazik material təbəqələrini substratın üzərinə yerləşdirmək üçün istifadə olunan bir texnika olan püskürtmə çöküntüsü prosesində istifadə olunan bir materialdır. Tantal püskürtmə hədəfləri yüksək təmizlikli tantaldan hazırlanır və yarımkeçiricilər, düz panel displeylər və günəş batareyaları kimi elektron cihazların istehsalında istifadə olunur.
Püskürtmə prosesi zamanı yüksək enerjili plazma tantal püskürən hədəfi bombalayır və tantal atomlarının hədəf səthindən atılmasına səbəb olur. Bu atılan atomlar daha sonra nazik bir film meydana gətirərək bir substratın üzərinə çökür. Tantal püskürtmə hədəfləri yüksək keyfiyyətli nazik təbəqə istehsalını təmin edərək, substratın üzərinə tantalın ardıcıl və vahid çöküntüsünü təmin etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur.
Tantal püskürtmə hədəflərinin yüksək saflığı elektron cihazlarda istənilən film xüsusiyyətlərinə və performansına nail olmaq üçün çox vacibdir. Tantal püskürtmə hədəflərinin istifadəsi yığılmış nazik təbəqələrin qalınlığına, tərkibinə və strukturuna dəqiq nəzarət etməyə imkan verir və onları qabaqcıl elektron komponentlərin istehsalında vacib edir.
Püskürtmə prosesi zamanı yüksək enerjili plazma tantal püskürən hədəfi bombalayır və tantal atomlarının hədəf səthindən atılmasına səbəb olur. Bu atılan atomlar daha sonra nazik bir film meydana gətirərək bir substratın üzərinə çökür. Tantal püskürtmə hədəfləri yüksək keyfiyyətli nazik təbəqə istehsalını təmin edərək, substratın üzərinə tantalın ardıcıl və vahid çöküntüsünü təmin etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur.
Tantal püskürtmə hədəflərinin yüksək saflığı elektron cihazlarda istənilən film xüsusiyyətlərinə və performansına nail olmaq üçün çox vacibdir. Tantal püskürtmə hədəflərinin istifadəsi yığılmış nazik təbəqələrin qalınlığına, tərkibinə və strukturuna dəqiq nəzarət etməyə imkan verir və onları qabaqcıl elektron komponentlərin istehsalında vacib edir.
| Dərəcə | R05200, R05400, Ta1, Ta10W, Ta2.5W |
| Saflıq | ≥99,95% |
| Sıxlıq | ≥16,6 q/sm3 |
| Ərimə nöqtəsi | 3410 ℃ |
| Çatdırılma vəziyyəti | Bitdi |
| Prosedur | Material-döymə-yayma-kəsmə- tantal qranulları |
| Ərizə | Əlavələr, emal hissələri |
GET FINANCING!
Other products can be provided based on customer’s requirements