Háfnio
Alvo de pulverização catódica de háfnio metálico de alta pureza, alvo de háfnio para eletrônicos
O revestimento de filme fino de háfnio também pode ser usado para fornecer dureza e proteção de superfície. A AEM produz alvos de pulverização catódica de háfnio com barras de cristal refinado da mais alta qualidade, garantindo alta pureza, baixo teor de zircônio e alta confiabilidade.
Propriedades do alvo de pulverização catódica de háfnio
| Fórmula química | Hf |
| Peso atômico | 178,49 |
| Cor/ Aparência | Aço cinza, metálico |
| Ponto de fusão | 2227℃ |
| Condutividade térmica | 23 W/mK |
| Coeficiente de Expansão Térmica | 5,9 x 10-6/K |
| Densidade teórica (g/cc) | 13h31 |
| Ração Z | 0,36 |
| Pulverização catódica | CC |
| Densidade máxima do pó (Watts/polegada quadrada) | 50 |
| Tipo de vínculo | Índio, elastômero |
Especificações do alvo de pulverização catódica de háfnio
| Descrição | Alvos de pulverização catódica de háfnio | |
| Pureza Típica | Hf+Zr>99,99%, | Zr |
| Tamanho | Circular: Diâmetro 1 mm; | Bloco: Comprimento 1 mm |
| Forma | Disco, prato | Coluna, degrau, feito sob medida |
Aplicações de alvos de pulverização catódica de háfnio
1. Usado em processos de deposição, incluindo deposição de semicondutores, deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD).
2. Usado para óptica, incluindo proteção contra desgaste, revestimentos decorativos e displays.
nossos alvos de pulverização catódica de háfnio de alta qualidade, a solução ideal para deposição de filme fino na fabricação de semicondutores e eletrônicos. Nossos alvos de pulverização catódica de háfnio são projetados para atender aos requisitos exigentes dos processos modernos de pulverização catódica, garantindo desempenho e confiabilidade excelentes.
Nossos alvos de pulverização catódica de háfnio estão disponíveis em uma variedade de tamanhos e configurações para se adaptar a diferentes sistemas de pulverização catódica, fornecendo flexibilidade e compatibilidade com uma variedade de equipamentos. Quer você use pulverização catódica de magnetron, pulverização catódica de feixe de íons ou outras técnicas de pulverização catódica, nossos alvos de háfnio fornecem deposição de filme consistente e uniforme, ajudando a produzir dispositivos eletrônicos de alto desempenho e componentes semicondutores.
Além dos alvos de pulverização catódica de háfnio padrão, oferecemos opções de fabricação personalizadas para atender aos requisitos específicos do cliente, incluindo formatos, tamanhos e composições exclusivos. Nossa equipe de especialistas se dedica a fornecer soluções personalizadas para atender às suas necessidades específicas de deposição de filme fino.
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