Leave Your Message
Sasaran sputtering logam hafnium ketulenan tinggi, Sasaran Hafnium Untuk Elektronik

Hafnium

Sasaran sputtering logam hafnium ketulenan tinggi, Sasaran Hafnium Untuk Elektronik

Hafnium (Hf) ialah kelabu perak berkilat, logam peralihan mulur. Logam Hafnium dimurnikan lagi kepada bar kristal menggunakan proses iodin van Arkel/de Boer. Hafnium menahan kakisan di udara akibat pembentukan filem oksida, walaupun hafnium serbuk terbakar di udara.

  • bahan Hafnium (Hf)
  • Berat Atom 178.49
  • Warna/ Rupa Keluli kelabu, logam

Salutan filem nipis Hafnium juga boleh digunakan untuk memberikan kekerasan permukaan dan perlindungan. AEM menghasilkan sasaran sputtering Hafnium dengan bar kristal halus berkualiti tinggi yang memastikan ketulenan tinggi, kandungan zirkonium rendah dan kebolehpercayaan yang tinggi.

Sifat Sasaran Hafnium Sputtering

Formula Kimia

Hf

Berat Atom

178.49

Warna/ Rupa

Keluli kelabu, logam

Takat Lebur

2227 ℃

Kekonduksian Terma

23 W/mK

Pekali Pengembangan Terma

5.9 x 10-6/K

Ketumpatan Teoritikal (g/cc)

13.31

Z Catuan

0.36

Sputter

DC

Ketumpatan Serbuk Maks (Watt/Inci Persegi)

50

Jenis Bon

Indium, elastomer

Spesifikasi Sasaran Hafnium Sputtering

Penerangan

Sasaran Sputtering Hafnium

Kesucian Biasa

Hf+Zr>99.99%,

Zr

Saiz

Pekeliling: Diameter 1mm;

Blok: Panjang 1mm

bentuk

Cakera, pinggan

Lajur, langkah, dibuat khas

Aplikasi Sasaran Hafnium Sputtering

1. Digunakan dalam proses pemendapan, termasuk pemendapan semikonduktor, pemendapan wap kimia (CVD), dan pemendapan wap fizikal (PVD).
2. Digunakan untuk optik, termasuk perlindungan haus, salutan hiasan dan paparan.
sasaran sputtering hafnium berkualiti tinggi kami, penyelesaian ideal untuk pemendapan filem nipis dalam pembuatan semikonduktor dan elektronik. Sasaran sputtering hafnium kami direka bentuk untuk memenuhi keperluan menuntut proses sputtering moden, memastikan prestasi dan kebolehpercayaan yang cemerlang.

Sasaran sputtering hafnium kami tersedia dalam pelbagai saiz dan konfigurasi agar sesuai dengan sistem sputtering yang berbeza, memberikan fleksibiliti dan keserasian dengan pelbagai peralatan. Sama ada anda menggunakan percikan magnetron, percikan pancaran ion atau teknik percikan yang lain, sasaran hafnium kami menyediakan pemendapan filem yang konsisten dan seragam, membantu menghasilkan peranti elektronik dan komponen semikonduktor berprestasi tinggi.
Sebagai tambahan kepada sasaran sputtering hafnium standard, kami menawarkan pilihan pembuatan tersuai untuk memenuhi keperluan pelanggan tertentu, termasuk bentuk, saiz dan gubahan yang unik. Pasukan pakar kami berdedikasi untuk menyediakan penyelesaian yang dibuat khusus untuk memenuhi keperluan pemendapan filem nipis khusus anda.

penerangan2

GET FINANCING!

Grow Your Fleet & Increase Your Revenue

What the customer wants to say: