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Bersaglio per sputtering di metallo di afnio ad alta purezza, bersaglio di afnio per elettronica

Afnio

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Bersaglio per sputtering di metallo di afnio ad alta purezza, bersaglio di afnio per elettronica

L'afnio (Hf) è un grigio argento lucente, un metallo di transizione duttile. Il metallo afnio viene ulteriormente purificato in barre di cristallo utilizzando il processo allo iodio van Arkel/de Boer. L'afnio resiste alla corrosione nell'aria grazie alla formazione di una pellicola di ossido, sebbene l'afnio in polvere bruci nell'aria.

  • Materiale Afnio (Hf)
  • Peso atomico 178,49
  • Colore/Aspetto Acciaio grigio, metallizzato

Il rivestimento a film sottile di afnio può anche essere utilizzato per fornire durezza superficiale e protezione. AEM produce target di sputtering di afnio con barre di cristallo raffinato di altissima qualità, garantendo elevata purezza, basso contenuto di zirconio e alta affidabilità.

Proprietà del bersaglio di sputtering dell'afnio

Formula chimica

A.F.

Peso atomico

178,49

Colore/Aspetto

Acciaio grigio, metallizzato

Punto di fusione

2227℃

Conduttività termica

23 W/mK

Coefficiente di dilatazione termica

5,9 x 10-6/K

Densità teorica (g/cc)

13.31

Razione Z

0,36

Sputare

corrente continua

Densità massima della polvere (watt/pollice quadrato)

50

Tipo di obbligazione

Indio, elastomero

Specifiche del target di sputtering dell'afnio

Descrizione

Obiettivi di sputtering dell'afnio

Purezza tipica

Hf+Zr>99,99%,

Zr

Misurare

Circolare: Diametro 1 mm;

Blocco: lunghezza 1 mm

Forma

Disco, piatto

Colonna, gradino, su misura

Applicazioni del bersaglio di sputtering dell'afnio

1. Utilizzato nei processi di deposizione, tra cui la deposizione di semiconduttori, la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione fisica da vapore (PVD).
2. Utilizzato per l'ottica, tra cui protezione dall'usura, rivestimenti decorativi e display.
i nostri target di sputtering in afnio di alta qualità, la soluzione ideale per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori ed elettronica. I nostri target di sputtering in afnio sono progettati per soddisfare i severi requisiti dei moderni processi di sputtering, garantendo prestazioni e affidabilità eccezionali.

I nostri target di sputtering in afnio sono disponibili in una varietà di dimensioni e configurazioni per adattarsi a diversi sistemi di sputtering, offrendo flessibilità e compatibilità con una varietà di apparecchiature. Sia che utilizziate lo sputtering magnetron, lo sputtering a fascio ionico o altre tecniche di sputtering, i nostri target di afnio forniscono una deposizione di film uniforme e coerente, aiutando a produrre dispositivi elettronici ad alte prestazioni e componenti semiconduttori.
Oltre ai target standard di sputtering di afnio, offriamo opzioni di produzione personalizzate per soddisfare requisiti specifici del cliente, tra cui forme, dimensioni e composizioni uniche. Il nostro team di esperti è impegnato a fornire soluzioni su misura per soddisfare le vostre specifiche esigenze di deposizione di film sottili.

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